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半導體微汙染監測設備
半導體製程於廠區與設備環境之AMC監測全方位解決方案
設備詳細
NFA-ALIS
智能氣態分子微汙染監測系列-離線揮發性有機監測設備
半導體廠經常以採氣罐採集環境氣體進行後續分析,特別是對矽晶圓有危害之 MC/VOCs,為了提供客戶分析便利性,NFA-ALIS 可協助多組採氣罐連續分析,並智能化完成所有分析程序。
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設備特點
設備規格
樣品採集
以採氣罐進樣 (6 L * 16)
獨家在線 VOCs 濃縮裝置 (NFC-SHTD)
分析整合系統
以氣相層析技術 (GCMS) 分析 VOCs
一次分析即可看所有監測目標物
內建標準氣體供數據分析比對與校驗定量使用
智能軟體
直覺化操作介面
客製化報告格式
搭配產品項目:
【NF 標準氣體】
【RESTEK 採氣罐】
NFA-ALIS
Items
Description
尺寸
W 2000 mm * D 1100 mm * H 1600 mm;550 kg
技術基礎
EI-GCMS / 電子撞擊四極杆式質量譜線分析儀
*為 IRDS (International Roadmap for Devices and Systems) 建議的分析方法
樣品採集方式
採氣罐進樣
可放置 16 組 6 L 採氣罐 (其他尺寸採氣罐亦可搭配)
資料庫能力
FATC 資料庫 (Fab Air Trace-Contamination Database)
*半導體行業專用揮發性有機氣體資料庫
解析能力
38 種 VOCs 全定量 / 百種 VOCs 半定量與未知物開發 (氟、氯、溴、硫化物類 VOCs 可全方位監測)
監測極限(MDL)
20~150 pptv 全 VOCs 物種
分析時間
< 15 min (第一筆之後)
* 一次分析輸出所有關注化合物
設備效能
監測範圍 / 檢量線範圍:5 ~ 100 ppbv
連續分析 5 ppbv STD gas:RSD < 10 %
連續分析 5 ppbv STD gas,各化合物之回收率落在 15% 以內
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