| 尺寸 | W 2800 mm * D 2200 mm * H 2400 mm；600 kg |
| 技術基礎 | Ion Chromatography ; IC / 離子層析
*為 IRDS (International Roadmap for Devices and Systems) 建議的分析方法 |
| 樣品採集方式 | 超潔淨 PFA 佈管，監測點位 20 ~ 100 ports (最少 20 ports)
*另外設置 offline 離線分析進樣口 |
| 採樣距離 | 距離最遠達150 m |
| 解析能力 | 全離子標準全定量
(單一設備氟、氯、溴、氮氧化物、硫化物、氨類可全方位監測)
* 半導體廠無塵室經常監測離子有：
MA: F-, Cl-, NO3-, SO42-
MB: NH4+ |
| 監測極限(MDL) | < 100 pptv |
| 分析時間 | < 20 min (第一筆之後)
* 一次分析輸出所有關注化合物 |
| 設備效能 | - 檢量線範圍 (0.5 ~ 10 ppb)：R > 0.995
- 連續低濃度分析：5 ppb MA/MB RSD < 15%
- 滯留時間穩定性：RT shift < 2%
- 連續分析下，各離子的回收率落在 20% 以內
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| 獨家功能 | 數值超標鎖點回饋 |
| 相關認證 | |