委託分析詳細

金屬奈米粒子粒徑、濃度分析

服務項目：

應用	前處理方法	檢測技術	MDL
製程化學品^*	直接進樣稀釋	SNP-ICP-MS^**	nm

^* 半導體製程超純水、化學品、酸鹼有機化合物或混酸成分檢測等
^** SNP = Single Nano-Particle

分析技術原理：
感應耦合電漿質譜儀 ICP-MS (Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry) 除了分析溶液中的金屬元素濃度外，也能提供奈米粒子大小 (nanoparticle size)、奈米粒子尺寸分布 (size distribution)、特定粒子濃度 (number concentration in a single) 等資訊。相較於同樣觀測粒子的 SEM (scanning electron microscopy)、TEM (transmission electron microscopy)、AFM (atomic force microscopy)，ICP-MS 的優點為高靈敏度、可區分粒子特異性與樣品前處理較簡易等，更加符合半導體廠需要解析極小維度金屬微汙染的需求。

圖1. ICP-MS 應用於奈米粒子分析示意圖。

圖2. 鐵奈米粒子於不同電子化學品中之線性結果。

圖3. 超純水中之奈米粒子分布。(NIST RM : 30nm / 60nm Au)

圖4. 奈米粒子於各電子化學品中的 BED 值。

參考資料:

https://www.agilent.com/cs/library/whitepaper/public/ICP-MS_5991-5516EN-nanoparticles.pdf