委託分析詳細

超微量金屬元素分析

服務項目：

應用	前處理方法	檢測技術	MDL
產品表面汙染物^*	Surface extraction (NF method)	ICP-QQQ	atom/cm²

^* 應用領域包含：半導體晶圓、零組件、材料濾網、建材等產品表面

分析技術原理：
感應耦合電漿質譜儀 ICP-MS (Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry；或稱 ICP-QMS) 為市面上偵測極限最低的金屬元素分析儀器，因此很適合應用於需要觀測微量金屬含量的半導體廠。進階款感應耦合電漿串聯式質譜儀 ICP-QQQ (Triple quadrupole ICP-MS) 則是多了一組四級柱 (quadrupole) 做質荷比 (m/z) 篩選，因此可多一層過濾掉其他干擾物的步驟。

圖1. ICP-QMS 與 ICP-MS 的運作原理示意圖。(圖片來源: 安捷倫型錄)

半導體廠相關應用：
圖2. 應用於半導體製程之電子化學品。

參考資料:

http://milli-q.com.tw/blog/detail/b3a79e68-c2f3-4ef6-8f08-638371b0c848?pageno=3

https://www.agilent.com/cs/library/brochures/5991-0079EN_8800_ICPQQQ_Brochure.pdf