全球半導體製造現已邁入工業 4.0 智慧生產製造時代。在這理念中，強調的不是創新技術，而是透過生產製造過程的智能數位化，將數據匯集於雲端形成龐大的資料庫，並透過大數據分析快速調整製程以應對產品變化。這一概念在電子化學品品質管理上，確保特用化學品廠在上游生產過程無懈可擊，同時下游半導體製造廠也能安心使用這些化學品。控制晶圓製程前的品質把關中，它更是提供多一層重要的最後防護，有效把關化學品品質，將微汙染物質對良率的衝擊機率降至最低。大大提升半導體製程穩定性和可靠性，同時提高產品的生產效率，增進半導體產業更具競爭力。

選擇金兆益的「在線智能電子化學品品質監測系列: NFA-i108 series」助您創建智能源頭管理程序。

建構全自動化程控與智能 AI 結合

NFA-i108 series 將電子化學品品管程序轉為全自動化，並導入智能 AI 判斷技術，讓客戶在化學品品管上不需費心思守候。

• 自主機況管理機制：設備能夠在多個流程階段引入機況查核機制，例如在化學品批次之間進行查核，或是在檢測後檢視微汙染超標情況時啟動，以確保超標情況非系統誤差所致。
• 智能遠程排程控制：當化學品品質管理無法事先排程，例如槽車到達碼頭的時間不固定，使得檢核順序難以預先設定，此時可搭載遠程控制中心進行操作。在碼頭，操作者只需按下啟動檢核鍵，系統即會將該槽車品檢安排至排程中，無需返回實驗室進行主機操作。
• 設備安全警示機制：在半導體製程中，使用的化學品多為高度危險的強酸、強鹼和有機溶劑。為應對潛在的洩漏情況，設備在各關鍵點都設有洩漏偵測器。一旦發生緊急情況，系統會立即停機，並自動發出警示通知，直接傳遞報告給廠區管理系統。

卓越的抗微汙染系統

半導體超微量分析領域的濃度等級約莫落在 ppt (parts per trillion) 左右，鮮少業者能勝任此一高度專業服務技術，最具挑戰因素在於微汙染難以控制。一般抗汙染的監測系統基本作法是挑選抗汙染且不易殘留的材料，並控制系統中汙染源可能進入的對外接觸口。然而，NFA-i108 series 除了遵循這些基本作法外，進一步融入了額外設計進而提升其抗汙染性能，內建三種控制汙染源進入系統的方式：

• 封式管閉路：直接阻絕外部汙染進入接觸系統
• 內建智能化清潔程序：清潔程序經驗證，確保執行完後樣品殘留量 < 1%
• 獨立流路設計：獨立流路設計分成「高通量運作模式 (High Throughput Operation Mode)」與「多重化學品檢測模式 (Multi-Chemicals Detection Mode)」

整合超微量分析技術

• C165 微量金屬不純物含量測定
• C166 微量陰離子不純物含量測定
• C999 鐵奈米粒子測定

實務應用

1. 半導體產業之槽車入料檢 (IQC) 
   
    
2. 晶圓製程前之化學品儲存與傳送檢核