半導體先進製程的極限競賽不只考驗研發能力，更涉及良率提升與放量生產的能力。現今製程已發展至個位數奈米節點，工序多達數百至千道製程，當微汙染摻入晶圓中導致良率受損時，該如何高效率回頭檢視多道製程的汙染狀況也是賽局中的關鍵。
微汙染控制部門進行 AMC 源頭查找與改善程序時，通常會以採氣罐 (Canisters) 和衝擊瓶 (Impingers) 至多個可疑位置採集樣品，於不同位置的同步採樣可進一步了解 AMC 擴散狀況。收集到的多組樣品送回實驗室後，以氣相層析質譜儀 (GC-MS) 和離子層析儀 (IC) 進行分析，例行流程包含樣品前處理、高階儀器操作、數值判定與問題排除。在步調相對快速的先進製程競賽中，人工分析效率難以匹敵自動化。因此，引入 AMC 全能 AI 助手，能輕鬆且高效地完成高技術含量的分析任務，一方面能讓工程師有足夠時間進行微汙染與良率的相關性分析，另一方面，未來也能節省新進同仁教育訓練所花費的時間成本。
選擇金兆益的「AMC 實驗室智慧集成解決方案」，是優化分析效率的不二之選！
AMC 實驗室智慧集成解決方案提供了完整的 AMC 採樣器具和設備運作的分析方法。當多組樣品上樣至設備端時，系統能夠自動進行連續解析，讓客戶輕鬆等待最終的數據報告。
提供半導體專用之 AMC 採樣工具
AMC 採樣工具包括兩種主要類型，分別為檢測 MC/VOCs 所用的採氣罐 (左) 以及應用於 MA/MB 酸鹼分析的手持式衝擊瓶模組 (右)。
為提供客戶理想的 AMC 採樣工具金兆益做足了功課。以採氣罐為例，我們挑選半導體產業口碑最佳之 Restek 品牌，同時在出貨前進行嚴謹篩選，包括長時間測漏試驗、真空下錶頭指針數值品管等，若客戶需要瞭解採氣罐潔淨度，金兆益亦可提供 COA 報告。
全面執行空氣採樣後的 AMC 分析程序
AMC 採樣後的分析與數據報告彙整可交由金兆益智能 AI 分析設備完成。針對採氣罐採集的樣品，使用 NFA-ALIS 進行分析，能夠準確測定製程環境中 MC/VOCs 物種的個別含量。而對於衝擊瓶吸收之樣品，NFA-iSQ 智能主動控制離子層析儀 (IC) 進行高效解析。這兩套設備不僅能夠涵蓋檢量線配置、樣品前處理、樣品分析，更能夠自動生成數據報告，並進行智能機況確認。
智能 AI 判斷功能
設備的智能 AI 設計能讓實驗室效率大幅提升，人員不需擔心運作過程中任何突發狀況發生。
- 邏輯式定量機制：當檢量線未達設定標準，系統自動重新建立檢量線。
- 機況自主管理：多筆樣品分析過程會安插自動機況診斷機制，可能出現的狀況有偵測器感度衰退、背景值汙染等，針對不同定義將啟動對應機制，例如常態感度衰退，則輔以修正係數。以確保設備能產出可靠數據，並維持在最佳狀態。
實務應用
- 半導體製程環境漏源查找：
當 AMC 於半導體製程環境超標時，負責人需要在有限時間內迅速解決問題。首先，必須找出 AMC 洩漏的源頭。負責人可在多個可疑位置使用採樣罐或手持式衝擊瓶同步採樣，以確認 AMC 擴散方向。接著，使用 NFA-ALIS 或 NFA-iSQ 進行高效連續解析，負責人根據數據報告的結果判斷汙染源頭，並選擇合適的方法進行處置。
- 補強半導體製程未佈點區域的 AMC 監測
- 提升實驗室與研發單位的產出效能