全球半導體製造已步入工業 4.0 的智慧製造時代，其中工業 4.0 的概念並非創造新穎技術，而是藉由製造的智能數位化，將數據匯集於雲端形成龐大的資料庫，透過大數據分析快速調整製程以迅速因應產品變化。這樣的理念引入半導體製程的 AMC 控管，將能有效地管理並控制 AMC 造成的良率衝擊。
選擇金兆益的「全廠區 AMC 標準監測全方案」將使您的智慧製造無懈可擊。
透過 AMC 監測流程的完整性、AMC 資訊收集的全面性與設備機況管理的主動性，將使您獲取高可靠的數據，在 24/7 運作下積累的數據能觀察製程環境 AMC 的變化趨勢與製程環境品質，使 AMC 無所遁形。一旦 AMC 觸擊管制限制，內建 AI 自動警示系統將直接匯報至客戶廠區內的管理系統，協助即時擬定處理策略。
AMC 監測流程的完整性與智能機況管理
透過內建完整的標準解決方案，成功整合複雜的作動程序，包含於相異製程區域使用不同的空氣採樣、樣品前處理，以及 AMC 解析定量與資料整合等多個步驟。若以人工操作方式進行這些步驟，每一階段都存在著誤差風險。然而，透過流程標準完整性操作，能將人因誤差趨近於零。
確認系統狀況 (Check system status)
在連續樣品解析時，為確保監測設備在最佳效能下運行，內建 AMC 即時 AI 定量校準功能，自主查看機況並進行調整，確保各區環境監測都能取得可靠的數值結果。
超標智能鎖點機制 (Over limit AI locking mechanism)
當環境中的 AMC 觸擊管制限制時，內建 AI 自動警示系統將直接匯報至客戶廠區內的管理系統，同時，決策管理區域範圍並啟動智能鎖點機制。
提供全面與完整性的 AMC 監測
在一個良好控制的製程環境中，大部分 AMC 來自製程廠區材料與人員的逸散，或是製程化學品的交叉汙染與反應後的副產物，因此 AMC 的危機來自多個方向。面對未知 AMC 可能會突然出現並影響產品良率，此解決方案涵蓋未知 AMC 的查找服務，協助客戶建立全面與完整性的 AMC 監測。
NFA-1007Ad 內建 NF Semi Library 集合了多種半導體製程區的 VOCs 資訊，這是由金兆益經驗積累下專為半導體產業打造的全面 VOCs 資料庫。當未知 VOCs 出現時，可以直接使用該資料庫進行 VOCs 定性確認。
NFA-C350 已將半導體製程常見的 MA、MB 納入監測清單中，若未來有擴增監測物種的需求，金兆益技術團隊將提供協助，共同開發相應的技術方法。
AMC 數值具比對性
金兆益高度關注監測設備與實驗室分析儀器產出之數據能有足夠比對性，也等同於兩者輸出的 AMC 濃度數值建立在相同基準下，我們遵守以下三項核心原則，以有效進行相異設備或廠區間的數據討論：
- 遵從半導體實驗室品管技術
- 採用專用分析標準品重新建立濃度定義與校準
- 提供校準進樣口 (matching port) 作為相同分析標準品之導入通道，進行比對之用
實務應用
在半導體製程中，全廠區 AMC 常態監測設備通常會放置於 sub-fab，並透過多組管路佈置在 fab 重點關注的位置，落實對製造廠區全面性 AMC 的 24/7 監測與趨勢管理。
