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半導體微汙染監測設備
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半導體微汙染監測設備
半導體製程於廠區與設備環境之AMC監測全方位解決方案
設備詳細
NFC-T08
採氣罐自動清洗設備
針對VOCs微量檢測分析使用之採氣罐進行自動化的清洗程序,符合美國EPA測定方法清洗要求,幫您省去繁瑣的清洗作業。
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設備特點
設備規格
於恆溫條件下利用乾燥氮氣、加濕氮氣及快速真空進行採氣罐清洗
無須外接電腦即可獨立運作
One Touch Start 簡易的操作介面
內鍵自動化最佳洗滌程序
大功率高效無油真空泵
程序完成後自動提醒
即時警報內容顯示
溫度曲線圖即時畫面及歷史紀錄調閱
搭配產品項目:
【RESTEK採氣罐】
NFC-T08
Items
Description
尺寸
W 1000 mm * D 800 mm * H 2100 mm (含三色燈);250 kg
清洗數量
同時清洗 8 顆 6 L or 2 顆 15 L 採氣罐
清洗時間
2.5 小時
清洗程序
於恆溫條件下利用乾燥氮氣、加濕氮氣及快速抽真空進行採氣罐清洗
洗淨效率
預設條件清洗效果: TVOC < 0.5 ppbv
* 預設清洗條件可將採氣罐內之殘留 VOCs 清洗至 < 1%
真空泵效率
抽氣速率: 250L/min
真空度 < 30×10
-3
Torr
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